スタイリング剤（ローション）
内容量：200ml


自由自在にヘアスタイルを表現できるスタイリングローションです。






【成分】
水、エタノール、ポリクオタニウム-11、加水分解シルク、ヒドロキシプロピルトリモニウム加水分解コラーゲン、パンテノール、メントール、BG、セテス-25、ポリソルベート80、ヒドロキシエチルセルロース、香料、クエン酸Na、サリチル酸グリコール、エチルパラベン、ブチルパラベン、プロピルパラベン、メチルパラベン、サリチル酸


【使用方法】
手のひらに適量をとり、よくのばしてから髪に塗布し、スタイリングしてください。


【使用上の注意】
頭皮に異常があるとき、または異常があらわれたときは使用を中止し、皮膚科専門医等にご相談されることをおすすめします。
乳幼児の手の届かない所に保管してください。
高温や直射日光をさけて保管してください。  

スタイリング剤（スプレー）
内容量：120g


＜ヘアトリートメント・スタイリング＞

スタイリストの感性を表現するデザインワークツール

”キレイ”をもっと楽しむために

●ストレートベースのスタイルを手早く仕上げて、デザインしたてのキレイな髪を保つことができます。
●髪の表面ダメージを補修しながら、本来のツヤとつるつるの手触りを与えてキープします。



【スタッフの一押しポイント】
ストレートスタイルのベースに最適。
ダメージヘアのパサつきを抑え、ツヤと収まり感のあるストレートヘアに。






【成分】
LPG、エタノール、シクロメチコン、ミリスチン酸イソプロピル、ラウロイルグルタミン酸ジ（フィトステリル/オクチルドデシル）、フェニルトリメチコン、パンテノール、トコフェロール、ジメチコン


【使用方法】
・ご使用前によく振ってから缶の頭部を上にして、髪から約30cmはなして、適量をスプレーしてください。
・横向きや逆さでは使用しないでください。ガスだけが出て中身が残り、最後まで使用できなくなります。
・低温下では出にくくなることがあります。そのときは常温に戻してからよく振ってご使用ください。


【使用上の注意】
・頭皮に異常があるとき、または異常があらわれたときは使用を中止し、皮膚科専門医等にご相談されることをおすすめします。
・噴射時にはノズルの向きに注意し、顔などへの誤噴射がないようにしてください。
・目に入ったときは、すぐによく洗い流してください。
・噴射した霧を直接吸い込まないでください。
・乳幼児の手の届かないところに保管してください。
・容器を捨てる際は、火気のない戸外で噴出音が消えるまでボタンを押してガスを抜いてください。  

スタイリング剤（ミストタイプ）
内容量：185ml

まずは動かしやすく扱いやすい状態へ、髪の下地づくりから。

髪の下地が整うと、スタイリングしやすくなって仕上がりも綺麗にきまる！
スタイリング前の髪にうるおいを与えて、扱いやすい髪質に。
さあ、ベースメイクをはじめよう♪

ライトダメージ／ふつう～やわらかい髪の方に

★ふんわりサラサラの指通りに

スタイリングをもっと心地よく楽しむためのヘアメイクアップシリーズ







【成分】
水、エタノール、ジメチコノール、グリセリン、マカデミアナッツ油、オレイン酸フィトステリル、ラウロイルグルタミン酸ジ（フィトステリル/オクチルドデシル）、ラフィノース、（ジヒドロキシメチルシリルプロポキシ）ヒドロキシプロピル加水分解シルク、ワサビノキシュシエキス、アルギニン、ベタイン、トコフェロール、BG、PPG-6デシルテトラデセス-30、ラウリル硫酸Na、ラウレス硫酸Na、硫酸Na、香料、クエン酸、リン酸2Na、EDTA-2Na、クロルフェネシン、フェノキシエタノール、エチルパラベン、ブチルパラベン、プロピルパラベン、メチルパラベン


【使用方法】
タオルドライ後のぬれた髪に、適量をスプレーしなじませてください。
※使いはじめは、数回空押ししてください。


【使用上の注意】
●お肌に合わないときはご使用をおやめください。
●目に入らないようにご注意ください。目に入った場合はこすらず、すぐに洗い流してください。
●床に付着するとすべりやすくなりますので、ご注意ください。
●乳幼児の手の届かない所に保管してください。
●高温や直射日光をさけて保管してください。  

スタイリング剤（クリームタイプ）
内容量：50ml


まずは動かしやすく扱いやすい状態へ、髪の下地づくりから。

髪の下地が整うと、スタイリングしやすくなって仕上がりも綺麗にきまる！
スタイリング前の髪にうるおいを与えて、扱いやすい髪質に。
さあ、ベースメイクをはじめよう♪

ハイダメージ・ふつう～かたい髪の方に

★しなやか・サラサラの指通りに

うるおいのある扱いやすい髪に整える、スタイリング前のベースメイク







【成分】
水、シクロメチコン、ジメチコン、セタノール、ステアルトリモニウムクロリド、BG、マカデミアナッツ油、セテアリルアルコール、オレイン酸フィトステリル、ラウロイルグルタミン酸ジ（フォトステリル/オクチルドデシル）、ラフィノース、（ジヒドロキシメチルシリルプロポキシ）ヒドロキシプロピル加水分解シルク、ワザビノキ種子エキス、アルギニン、トコフェロール、グリセリン、エタノール、グアーヒドロキシプロピルトリモニウムクロリド、香料、クエン酸、リン酸2Na、EDTA-2Na、クロルフェネシン、エチルパラベン、プロピルパラベン、メチルパラベン


【使用方法】
タオルドライ後のぬれた髪に、適量をなじませてください。


【使用上の注意】
お肌に合わないときはご使用をおやめください。